国产光刻机官宣成功

钛媒体App 9月18日消息,工信部近日公布了《首台(套)重大技术装备推广应用指导目录(2024年版)》,其中包含氟化氪光刻机和氟化氩光刻机;信息显示,氟化氪光刻机光源248纳米,分辨率≤110nm,套刻精度≤25nm;氟化氩光刻机光源193纳米,分辨率≤65nm,套刻精度≤8nm。据了解,按套刻精度与量产工艺 1:3 的关系,氟化氩光刻机大概可以量产 28nm 工艺的芯片。截至18日午间收盘,光刻机概念活跃,同飞股份波长光电20cm涨停。
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同飞股份+2.75%
波长光电-2.87%

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评论
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  • 商场如战场,竞争激烈啊
  • 行业发展都是有周期的
  • 企业的发展都不是一番风顺的
  • 说的好有道理😄
  • 内容值得人们反思
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